PVD 코팅 소재

• 리튬망간산(LiMn2O4) 스퍼터링 타겟

  리튬 망간산 스퍼터링 타겟은 Li, Mn, O 원소를 함유한 검은색 스퍼터링 소재입니다. 리튬 이온 배터리용 전도성 세라믹 고체 전해질 소재입니다.

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• 리튬코발테이트(LiCoO2) 스퍼터링 타겟

  스퍼터링은 다양한 재료의 박막을 다양한 모양과 크기의 기판에 증착할 수 있는 검증된 기술입니다.

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• 이트륨 산화물(Y2O3) 스퍼터링 타겟

  순도: 99.99%;
  생산방식 : 열간프레스소결
  사용 가능한 치수:
  

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• 지르코늄 산화물(ZrO2) 스퍼터링 타겟

  당사는 산화물 스퍼터링 타겟, 카바이드 스퍼터링 타겟, 불화물 스퍼터링 타겟, 황화물 스퍼터링 타겟 등을 포함한 세라믹 스퍼터링 타겟과 복합 타겟의 전체 범위를 생산하고 공급합니다. 세라믹 스퍼터링 타겟의 생산 기술은 핫프레스입니다.

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• 리튬니오베이트(LiNbO3) 스퍼터링 타겟

  저희 공장은 산화물 스퍼터링 타겟, 카바이드 스퍼터링 타겟, 불화물 스퍼터링 타겟, 황화물 스퍼터링 타겟 등을 포함한 세라믹 스퍼터링 타겟과 복합 타겟의 전체 범위를 생산하고 공급할 수 있습니다. 세라믹 스퍼터링 타겟의 생산 기술은 핫프레스입니다.

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• 산화아연/산화알루미늄(AZO-ZnO/Al2O3) 스퍼터링 타겟

  당사 공장에서는 반도체, 화학 기상 증착(CVD), 물리 기상 증착(PVD) 디스플레이, 광학 응용 분야에 사용되는 가장 높은 밀도와 가장 작은 평균 입자 크기를 가진 고순도 알루미늄 도핑 산화 아연(AZO) 스퍼터링 타겟을 생산합니다.

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• 텅스텐 티타늄(WTi) 스퍼터링 타겟

  텅스텐 티타늄 스퍼터링 타겟은 반도체와 박막 태양 전지에 널리 사용되는 분말 야금 기술로 생산됩니다.

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• 알루미늄 네오디뮴(AlNd) 스퍼터링 타겟

  알루미늄 네오디뮴 합금은 일반적으로 사용되는 마그네트론 스퍼터링 타겟입니다. 알루미늄은 660도의 녹는점, 2.7의 밀도, 0.53의 열전도도를 가지고 있는 반면, 네오디뮴은 1024도의 녹는점, 7.0의 밀도, 0.031의 열전도도를 가지고 있습니다.

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• 알루미늄 구리(AlCu) 스퍼터링 타겟

  알루미늄 구리 스퍼터링 타겟은 높은 경도, 인장 강도 및 가벼운 무게로 인해 다양한 산업 및 응용 분야에 적합합니다. 일반적으로 1-3%의 구리 함량을 가지고 있으며 알루미늄과 유사한 화학적 특성을 가지고 있습니다.

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• 알루미늄 스칸듐(AlSc) 스퍼터링 타겟

  스칸듐은 알루미늄에 대한 분산 강화 효과가 좋습니다. 열간 가공 또는 어닐링 상태에서는 안정된 비재결정 구조입니다. 일부 합금은 냉간 압연 판으로, 큰 변형이 있고 어닐링 후에도 이 구조를 유지합니다.

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• 알루미늄 실리콘(AlSi) 스퍼터링 타겟

  타겟은 알루미늄과 실리콘 파우더를 혼합한 다음 압축하여 완전 밀도로 제조합니다. 이렇게 압축된 재료는 선택적으로 소결한 다음 원하는 타겟 모양으로 형성됩니다.

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• 알루미늄 크롬(AlCr) 스퍼터링 타겟

  당사의 알루미늄-크롬 합금 타겟은 고급 열간 등압 프레스 공정을 채택합니다. 제품에는 직사각형 타겟, 아크 타겟 및 대면적비 일체형 튜브 타겟 등이 있으며, 구성비가 광범위하고 순도와 밀도가 높으며, 결정립이 작고 균일하며 수명이 길다는 장점이 있습니다.

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