당사의 백킹 플레이트가 있는 이산화지르코늄 스퍼터링 타겟은 금속 백킹 플레이트에 단단히 결합된 고순도 이산화지르코늄 재료를 사용하여 제작됩니다.- 이 디자인은 빠른 열 방출과 탁월한 균열 저항성을 보장합니다....

당사의 구리 백킹 플레이트가 있는 ZrC(지르코늄 카바이드) 스퍼터링 타겟은 고순도 ZrC 타겟 재료와 구리 백킹 사이의 강력한 결합이 특징입니다.{0}} 이 설계는 탁월한 열 및 전기 전도성을 보장하여 빠른...

5원자% 비율의 탄탈륨을 사용하여 지르코늄 카바이드를 정밀하게 도핑하면 타겟 재료의 고온 저항성, 열충격 저항성 및 내식성이 크게 향상됩니다.- 높은 순도와 균일한 밀도를 자랑하여 스퍼터링 시 우수한 막질을...

3N5 순수 몰리브덴 원형 막대는 99.95% 고품질- 몰리브덴 분말로 정제되어 탁월한 고온-내식성과 우수한 전기 및 열 전도성을 제공합니다. 매끄러운 표면과 정확한 치수를 특징으로 하는 이 제품은 진공로,...

당사의 4N IGZO 스퍼터링 타겟은 보다 안정적이고 효율적인 스퍼터링 성능을 제공합니다. 고급-디스플레이 및 반도체 응용 분야에 특화된 이 제품은 탁월한 전자 이동성과 이미징 선명도를 실현하는 데 도움을 줍니다.

구리 백킹이 포함된 4N HfO2 스퍼터링 타겟은 순도 99.99%의 하프늄 산화물 재료를 사용합니다. 구리 백킹과 통합되어 탁월한 열 전도성을 제공하며 광학 코팅, 반도체 제조 및 진공 코팅 공정에...

2% Ti- 도핑된 HfO₂ 스퍼터링 타겟은 2% 티타늄으로 정밀하게 도핑된 고순도 산화 하프늄 기판을 사용하여 제조됩니다.- 조성 균일성과 고밀도가 특징인 이 제품은 광학 코팅, 반도체 박막 증착 및 기능성...

4N 고순도- 이산화 하프늄 타겟(순도 99.99%) - 광학 코팅, 반도체 및 정밀 전자 분야의 응용 분야에 적합합니다. 고밀도, 균일한 조성, 안정적인 스퍼터링 성능이 특징입니다.