합금 스퍼터링 타겟

• ZRTI 스퍼터링 대상

  ZRTI Sputtering Target은 주로 전자 정보 산업, 유리 코팅 필드, 고온 부식성 재료, 고급 장식 제품, 터치 스크린 산업 및 태양 광 산업 등에 사용됩니다.

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• ZRTI 스퍼터 대상

  ZRTI 스퍼터 대상은 일반적으로 사용되는 금속 스퍼터링 목표 중 하나이며, 이는 평면 목표, 스프레이 대상 및 회전 목표 등으로 나눌 수 있으며 ION 진공 산업 및 마그네트론 스퍼터링 공정에서 중요한 역할을합니다.

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• 지르코늄 티타늄 ZRTI 스퍼터링 목표

  지르코늄 티타늄 ZRTI 스퍼터링 목표는 산업에서 다중 아크 이온 진공 코팅 또는 마그네트론 스퍼터링 PVD에 널리 사용되며 요구 사항에 따라 마모 방지 재료, 장식 코팅 또는 기능 코팅으로 사용될 수 있습니다.

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• 티타늄 실리콘 스퍼터링 목표

  티타늄 실리콘 스퍼터링 목표는 높은 기계적 강도, 우수한 내마모성, 강한 내식성 및 우수한 충격 저항, 자동차 유리 코팅, 디스플레이 코팅 산업, 반도체 산업, 전자 공학, 금속 가공 및 장식 산업 등의 특성을 가지고 있습니다.

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• CR-TI 합금 스퍼터링 대상

  CR-Ti 합금 스퍼터링 목표에 의해 스퍼터링 된 고품질의 박막 코팅은 시계, 전자 제품, 제어 구성 요소 및 기타 많은 제품을위한 장식 코팅으로 사용될뿐만 아니라 광택이 많은 색상을 부여 할뿐만 아니라 산업 장비의 중요한 부품을 준수합니다. 충격 저항과 내마모성을 향상시키기 위해 표면에. 특정 크기 사양은 그리기를 통해 사용자 정의 할 수...

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• 크롬 티타늄 스퍼터링 목표

  티타늄 크롬 합금은 종종 산업 분야에서, 주로 발전소, 엔진 용 압축기 부품, 전기 분해 산업의 전극 및 오일 정제를위한 히터의 생산에 사용됩니다. 더욱이, 그들은 종종 항공 우주 및 과학 연구에서 다양한 중요한 구성 요소로 사용됩니다.

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• 크롬 티타늄 합금 스퍼터링 표적

  크롬 티타늄 합금 스퍼터링 표적은 강한 충격 저항, 높은 부식성, 높은 코팅 품질, 긴 서비스 수명 및 우수한 전도도의 특성을 갖는다. 우리의 모든 스퍼터링 목표는 품질에 대해 테스트되었으므로 자신있게 제품을 주문할 수 있습니다.

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• 텅스텐 티타늄(WTi) 스퍼터링 타겟

  텅스텐 티타늄 스퍼터링 타겟은 반도체와 박막 태양 전지에 널리 사용되는 분말 야금 기술로 생산됩니다.

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• 알루미늄 네오디뮴(AlNd) 스퍼터링 타겟

  알루미늄 네오디뮴 합금은 일반적으로 사용되는 마그네트론 스퍼터링 타겟입니다. 알루미늄은 660도의 녹는점, 2.7의 밀도, 0.53의 열전도도를 가지고 있는 반면, 네오디뮴은 1024도의 녹는점, 7.0의 밀도, 0.031의 열전도도를 가지고 있습니다.

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• 알루미늄 구리(AlCu) 스퍼터링 타겟

  알루미늄 구리 스퍼터링 타겟은 높은 경도, 인장 강도 및 가벼운 무게로 인해 다양한 산업 및 응용 분야에 적합합니다. 일반적으로 1-3%의 구리 함량을 가지고 있으며 알루미늄과 유사한 화학적 특성을 가지고 있습니다.

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• 알루미늄 스칸듐(AlSc) 스퍼터링 타겟

  스칸듐은 알루미늄에 대한 분산 강화 효과가 좋습니다. 열간 가공 또는 어닐링 상태에서는 안정된 비재결정 구조입니다. 일부 합금은 냉간 압연 판으로, 큰 변형이 있고 어닐링 후에도 이 구조를 유지합니다.

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• 알루미늄 실리콘(AlSi) 스퍼터링 타겟

  타겟은 알루미늄과 실리콘 파우더를 혼합한 다음 압축하여 완전 밀도로 제조합니다. 이렇게 압축된 재료는 선택적으로 소결한 다음 원하는 타겟 모양으로 형성됩니다.

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