텅스텐 티타늄(WTi) 스퍼터링 타겟
텅스텐 티타늄(WTi) 스퍼터링 타겟

텅스텐 티타늄(WTi) 스퍼터링 타겟

텅스텐 티타늄 스퍼터링 타겟은 반도체와 박막 태양 전지에 널리 사용되는 분말 야금 기술로 생산됩니다.
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제품 설명

 

텅스텐 티타늄 스퍼터링 타겟은 반도체와 박막 태양 전지에 널리 사용되는 분말 야금 기술로 생산됩니다.

 

반도체 응용 분야에서는 WTi10wt% 박막을 확산 장벽 및 접착층으로 사용하여 금속화 층과 반도체를 분리합니다. 예를 들어, 알루미늄과 실리콘, 구리와 실리콘을 분리합니다. 따라서 마이크로칩에서 반도체의 기능을 크게 향상시킬 수 있습니다.

 

박막 태양 전지의 경우, WTi10wt% 박막도 장벽층으로 사용되어 강철 기판의 철 원자가 몰리브덴 후면 접점 및 CIGS 반도체로 확산되는 것을 방지합니다. 텅스텐 티타늄 타겟도 LED 및 공구 코팅에 사용됩니다.

 

당사 공장에서는 WTi 90/10wt%, WTi 85/15wt% 타겟을 생산할 수 있으며, 특수 합성 타겟도 맞춤 제작이 가능하며, 실제 타겟의 밀도는 99% 이상입니다.

 

안건

텅스텐 티타늄 스퍼터링 타겟

사용 가능한 순도

99.9% 최소, 요청하신 대로

사용 가능한 모양

귀하의 요청에 따라 직사각형, 원형, 회전형, 펠릿, 잉곳

크기

협상 가능

기술

녹는

애플리케이션

진공코팅,공정,장식,LED,반도체,

관련 상품

WNiFe, WTa, Mo, Ta, Nb, V, Zr, Hf, Ti, Ni, Cu 등

 

생산 공정: 제련, 적재 및 도구 도금.
1. 순도: 99.9% 이상
2. 사이즈 : 치수는 고객 요구사항에 따라 생산됩니다.
용도: 주로 진공 코팅, 표면 처리, 하드 코팅, 건축용 유리 코팅, 평판 디스플레이, 태양광 코팅, 광학 코팅 등의 분야에 사용됩니다.

 

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