TiAl 타겟
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MO-LA 합금 호일MO-LA 합금 포일은 조명, 전기 진공 장치, 전력 반도체 장치의 관형 구성 요소, 전구의 내부 부분, 유리 섬유 용광로의 가열 요소, 고온 용광로의 열 방패, 금속 가공 산업의 고온 용기, 파일 멘트 및 전극에 적합합니다.자세히 보기
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티타늄-알루미늄 타이얼 표적티타늄-알루미늄 표적은 절단 도구의 경도 및 서비스 수명을 향상시킬 수 있으며 하드웨어 도구 코팅, 장식 코팅, 평면 디스플레이 코팅, PVD 및 CVD 프로세스, 반도체 구성 요소 및 다양한 마그네트론 스퍼터링 기계 및 이온 지식기 기계에 널리 사용됩니다.자세히 보기
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티타늄 등급 7 라운드 바티타늄 등급 7 둥근 막대는 분말 야금 공정을 통한 부식성 티타늄-팔라듐 합금으로 만들어졌습니다. 항공 우주 산업 (항공기 및 로켓의 일부), 전자 공학 (전자 부품, 마이크로 일렉트로닉 장치 및 나노 기술), 화학 산업 (제조 원자로, 열교환 기, 증발기 및 기타 장비), 자동차 제조 산업 (제조 엔진 부품, 배기 파이프) 및 기타 산업에서 널리...자세히 보기
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티타늄 알루미늄 Ti-al 둥근 표적티타늄 알루미늄 TI-AL 둥근 표적은 일반적으로 진공 코팅에 사용되는 금속 표적입니다. 티타늄 및 알루미늄의 함량을 혼합하여 다른 특성을 얻을 수 있습니다. 이들은 적절한 공정 조건에서 마그네트론 스퍼터링, 다중 아크 이온 도금 또는 기타 유형의 코팅 장비에 사용하기에 매우 적합합니다.자세히 보기
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티타늄 알루미늄 합금 스퍼터링 목표고급 핫 등방성 프레스 공정에 의한 티타늄 알루미늄 합금 스퍼터링 목표. 이들은 일반적으로 하드웨어 도구 코팅, 장식 코팅, 반도체 구성 요소 및 플랫 디스플레이 코팅에 일반적으로 사용됩니다.자세히 보기
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티타늄 알루미늄 합금 둥근 막대티타늄 알루미늄 합금 바닥 막대는 항공 우주 분야 (항공기, 미사일, 위성 및 기타 비행 장치 제조에 사용됨), 자동차 산업 (가벼운 자동 부품 제조에 사용), 의료 분야 (인공 조인트 또는 임플란트를 제조하는 데 사용), 스포츠 장비에 넓은 재료 중 하나, 해병 공학 및 스퍼터링 처리 (Sputter Coating for Sputter...자세히 보기
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티타늄 알루미늄 tial pvdtarget티타늄 알루미늄 Tial PVD 목표는 또한 드릴 비트 및 기타 도구 및 다이를위한 코팅을 제조하는 데 사용될 수 있습니다. 이 코팅은 도구 및 다이의 절단 속도와 절단 성능을 크게 향상시키고 도구의 서비스 수명을 확장 할 수 있습니다.자세히 보기
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Ti-al 합금 스퍼터링 대상Tial Alloy Sputtering Target은 다양한 야금 공구 코팅, 평면 패널 디스플레이 코팅 (예 : 시계, 휴대 전화 및 컴퓨터) 및 장식 코팅에 매우 적합하며 Ion Sputtering Field 및 Electronics 산업에서도 일반적으로 사용됩니다.자세히 보기
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TI-AL 합금 PVD 대상TI-AL 합금 PVD 표적은 종종 제련 주조 방법 및 분말 소결 방법에 의해 만들어지며, 장식, 곰팡이 가공, 유리, 전자 장치, 반도체, 자기 기록, 평평한 디스플레이, 태양 전지 등과 같은 많은 진공 코팅 필드에서 널리 사용될 수 있습니다.자세히 보기
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알루미늄 티타늄 합금 스퍼터링 목표알루미늄 티타늄 합금 스퍼터링 표적은 일반적으로 곡물 크기가 작고 균일 한 현미경 내부 구조를 갖는 열 등방성 프레스 공정에 의해 생성되며, 이는 고객이 고급 박막 코팅 및 일정한 침식 속도를 얻을 수 있도록 도와줍니다.자세히 보기
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Al-Ti 합금 스퍼터링 대상Al-Ti 합금 스퍼터링 목표는 종종 진공 제련 제조 방법에 의해 만들어집니다. 그것은 높은 경도, 고온 저항, 높은 기계적 강도, 우수한 생검, 탁월한 부식 저항, 강한 아크 충격 저항, 연삭, 내구성 등과 같은 일련의 탁월한 특성을 가지고 있습니다.자세히 보기
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