Ti-al 합금 스퍼터링 대상

Tial Alloy Sputtering Target은 다양한 야금 공구 코팅, 평면 패널 디스플레이 코팅 (예 : 시계, 휴대 전화 및 컴퓨터) 및 장식 코팅에 매우 적합하며 Ion Sputtering Field 및 Electronics 산업에서도 일반적으로 사용됩니다.

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Tial 합금 스퍼터링 목표

스퍼터링 목표의 주요 기능은 공작물의 내마모성 및 서비스 수명을 향상시키기 위해 공작물에 밀집된 필름을 퇴적하는 것입니다.

tial 합금 스퍼터링 목표를 준비하는 두 가지 방법이 있습니다.

뜨거운 등방성 압박과 제련. 전자는 더 높은 밀도와 강도를 추구하는 반면, 후자는 더 높은 순도를 얻을 수 있으며, 다른 제조 공정은 다른 응용 시나리오에 따라 선택 될 수 있습니다.

tial 합금 스퍼터링 목표의 특성 :

1. 작은 입자 크기와 더 많은 균일 한 현미경 내부 구조

2. 고품질, 고순도, 균일 구조, 긴 서비스 수명, 좋은 부식성, 높은 열전도율 및 고가의 성능

3. 도구가 더 높은 공급 속도, 더 나은 절단 성능, 더 긴 서비스 수명 및 더 높은 금속 제거율을 얻는 데 도움이 될 수 있습니다.

4. 좋은 경도, 높은 밝기, 부식 저항, 좋은 페이드 저항 및 내구성있는 필름을 퇴적시킬 수 있습니다.

tial 합금 스퍼터링 목표의 특수성 :

등급	Alti 25/75, Alti 30/70, Alti 40/60 등.
기술	뜨거운 등방성 압박, 소결, 단조, 어닐링
청정	99.5-99.9%
유형	평면 스퍼터링 표적, 로터리 스퍼터링 표적, ACR 캐소드.
두께	사용자 정의
길이	사용자 정의
지름	사용자 정의
밀도	3.4g/cm3
모양	디스크, 판, 기둥, 단계, 사각형, 튜브
표면	세련된, 알칼리 청소, 연삭, 검은 색 산화물 등