PVD 코팅 소재

• 4N Mg 마그네슘 스퍼터링 타겟

  4N 마그네슘 스퍼터링 타겟은 순도가 99.99% 이상인-고순도 금속 스퍼터링 재료입니다. 미세한 입자와 균일한 구성을 특징으로 하여 반도체, 광학 코팅 및 부식 방지 코팅 준비에 적합합니다.- 전문 제조업체는 연구 및 산업 요구 사항을 충족하기 위해 맞춤형 크기, 진공 포장 및 빠른 배송을 제공하여 칩, MEMS 및 박막{6}}필름 태양 전지와...

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• 99.95% Hf 하프늄 스퍼터링 타겟

  99.95% 고순도-하프늄 스퍼터링 타겟, 항공우주-등급 Hf 금속 타겟, 맞춤형 크기, 결합 구리 백킹 플레이트, 반도체 박막, 광학 코팅, 군용 코팅에 사용되며 소규모 배치 샘플 지원, 기공 없는 고밀도, 균일한 스퍼터링, 긴 수명.

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• 지르코늄 튜브 타겟

  지르코늄 튜브 타겟은 내부식성-및 고온 저항성이 있는-벽이 얇은 고순도 지르코늄 튜브로, 스퍼터링 중에 조밀하고 균일한 필름을 생성합니다. 이는 화학 장비, 원자로 및 반도체 파이프라인의 내부 벽에 부식 방지 코팅을 준비하는 데 널리 사용됩니다.

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• ZRTI 스퍼터링 대상

  ZRTI Sputtering Target은 주로 전자 정보 산업, 유리 코팅 필드, 고온 부식성 재료, 고급 장식 제품, 터치 스크린 산업 및 태양 광 산업 등에 사용됩니다.

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• ZRTI 스퍼터 대상

  ZRTI 스퍼터 대상은 일반적으로 사용되는 금속 스퍼터링 목표 중 하나이며, 이는 평면 목표, 스프레이 대상 및 회전 목표 등으로 나눌 수 있으며 ION 진공 산업 및 마그네트론 스퍼터링 공정에서 중요한 역할을합니다.

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• 지르코늄 티타늄 ZRTI 스퍼터링 목표

  지르코늄 티타늄 ZRTI 스퍼터링 목표는 산업에서 다중 아크 이온 진공 코팅 또는 마그네트론 스퍼터링 PVD에 널리 사용되며 요구 사항에 따라 마모 방지 재료, 장식 코팅 또는 기능 코팅으로 사용될 수 있습니다.

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• 티타늄 실리콘 스퍼터링 목표

  티타늄 실리콘 스퍼터링 목표는 높은 기계적 강도, 우수한 내마모성, 강한 내식성 및 우수한 충격 저항, 자동차 유리 코팅, 디스플레이 코팅 산업, 반도체 산업, 전자 공학, 금속 가공 및 장식 산업 등의 특성을 가지고 있습니다.

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• CR-TI 합금 스퍼터링 대상

  CR-Ti 합금 스퍼터링 목표에 의해 스퍼터링 된 고품질의 박막 코팅은 시계, 전자 제품, 제어 구성 요소 및 기타 많은 제품을위한 장식 코팅으로 사용될뿐만 아니라 광택이 많은 색상을 부여 할뿐만 아니라 산업 장비의 중요한 부품을 준수합니다. 충격 저항과 내마모성을 향상시키기 위해 표면에. 특정 크기 사양은 그리기를 통해 사용자 정의 할 수...

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• 크롬 티타늄 스퍼터링 목표

  티타늄 크롬 합금은 종종 산업 분야에서, 주로 발전소, 엔진 용 압축기 부품, 전기 분해 산업의 전극 및 오일 정제를위한 히터의 생산에 사용됩니다. 더욱이, 그들은 종종 항공 우주 및 과학 연구에서 다양한 중요한 구성 요소로 사용됩니다.

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• 크롬 티타늄 합금 스퍼터링 표적

  크롬 티타늄 합금 스퍼터링 표적은 강한 충격 저항, 높은 부식성, 높은 코팅 품질, 긴 서비스 수명 및 우수한 전도도의 특성을 갖는다. 우리의 모든 스퍼터링 목표는 품질에 대해 테스트되었으므로 자신있게 제품을 주문할 수 있습니다.

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• 질화붕소(BN) 도가니

  질화붕소 세라믹은 산 및 알칼리 부식에 강하고, 전기 절연성이 강하며, 알루미나의 3-4배의 전기적 파괴 강도를 가지고 있습니다. 질화붕소 세라믹은 우수한 고온 저항성을 가지고 있습니다.

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• 니오븀(Nb) 도가니

  니오븀 도가니, 니오븀 컵이라고도 불리며, 주로 야금 산업, 화학 산업, 기계 가공, 유리 및 세라믹 산업에서 사용됩니다. 우수한 고온 안정성과 내식성을 보입니다.

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