PVD 코팅 소재

• 산화아연(ZnO) 스퍼터링 타겟

  마그네트론 스퍼터링 물리적 기상 증착에 사용되는 산화 아연(ZnO) 스퍼터링 타겟. 모든 주요 스퍼터 소스 제조업체에 맞게 다양한 직경, 두께 및 순도가 제공됩니다.

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• 불화마그네슘(MgF2)스퍼터링 타겟

  불화마그네슘은 흰색 결정질 염이며 광범위한 파장에서 투명하며, 우주 망원경에도 사용되는 광학 분야에서 상업적으로 사용됩니다. 희귀한 미네랄인 셀라이트로 자연적으로 발생합니다. 불화마그네슘 타겟은 박막 증착에 사용됩니다.

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• 리튬코발트산화물(LiCoO2) 스퍼터링 타겟

  리튬 코발트 산화물은 층상 구조로 리튬 이온 이동을 위한 2차원 터널을 제공합니다. LiCoO2 스퍼터링 타겟은 우수한 전기화학적 성능으로 인해 배터리를 만드는 데 적합한 소재입니다. 이러한 성능에는 평균 용량 감쇠가 포함됩니다.<0.05% per one cycle, First discharge specific capacity > 135mAh / g...

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• 산화몰리브덴(MoO3) 스퍼터링 타겟

  몰리브덴 산화물 스퍼터링 타겟은 반도체, 화학 기상 증착(CVD), 물리 기상 증착(PVD) 디스플레이 및 광학 응용 분야에서 사용할 수 있습니다. 당사는 경쟁력 있는 가격으로 고품질 몰리브덴 산화물 스퍼터링 타겟을 공급합니다.

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• 산화마그네슘(MgO) 스퍼터링 타겟

  스퍼터링 타겟의 산화 마그네슘은 주로 고속 필름 형성, 마이크로 전자 및 태양광 산업에서의 응용, 특정 제조 공정 및 광범위한 코팅 응용 분야에서 반영됩니다. 이러한 응용 분야는 산화 마그네슘 자체의 물리적 및 화학적 특성으로부터 이점을 얻습니다.

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• 이황화 몰리브덴(MoS2) 스퍼터링 타겟

  MoSi2는 사방정계 구조입니다. Mo-Si 이원 합금계에서 가장 높은 실리콘 함량을 가진 중간상입니다. 고정된 조성, 회색, 금속 광택을 가진 달톤 금속간 화합물입니다.

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• 니오븀 산화물(Nb2O5) 스퍼터링 타겟

  당사의 니오븀 산화물 타겟은 고급 진공 핫 프레싱, 핫 이소스테틱 프레싱, 콜드 프레싱 소결 및 열 분무 공정을 사용하여 생산됩니다. 당사의 제품에는 직사각형 타겟, 아크 타겟 및 튜브 타겟이 포함됩니다.

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• 니켈산화물(NiO) 스퍼터링 타겟

  NiO 타겟은 물리 기상 증착(PVD) 및 화학 기상 증착(CVD)과 같은 박막 성장 기술에 사용되는 소재입니다. 이러한 기술은 반도체 소자, 광전자 소자 및 다양한 고성능 필름 제조에서 중심적인 역할을 합니다.

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• 실리콘 카바이드(SiC) 스퍼터링 타겟

  이 섹션에서는 실리콘 카바이드 타겟의 기본적인 특성을 자세히 설명합니다. 화학적 및 물리적 특성, 제조 방법부터 품질 평가 지표의 포괄적 분석까지 다루며, 이를 통해 고성능 응용 분야에서의 주요 장점을 완전히 이해하는 것을 목표로 합니다.

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• 일산화규소(SiO) 스퍼터링 타겟

  일산화규소는 화학식 SiO를 갖는 무기 화합물입니다. 실온과 압력에서 흑갈색에서 황토색의 비정질 분말입니다.

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• 알루미늄 산화물(Al2O3) 스퍼터링 타겟

  알루미늄 산화물 타겟 소재, 이 고순도, 고밀도 세라믹 소재는 뛰어난 안정성을 가질 뿐만 아니라 극한의 열 환경을 견딜 수 있습니다. 마이크로 전자, 정밀 광학 및 표면 엔지니어링과 같은 분야에서 중요한 역할을 합니다.

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• 알루미늄 질화물(AlN) 스퍼터링 타겟

  알루미늄 질화물 스퍼터링 타겟은 고순도 알루미늄 질화물, 박막 증착 재료, 반도체 산업용 타겟, AlN 스퍼터 타겟, 세라믹 스퍼터링 재료, 알루미늄 질화물 코팅, PVD 코팅 재료, 스퍼터 증착 타겟, AlN 박막 기판, AlN 스퍼터링 타겟 재료라고도 합니다.

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