PVD 코팅 소재

• 코발트 탄탈럼 지르코늄(CoTaZr) 스퍼터링 타겟

  코발트 탄탈럼 지르코늄 스퍼터링 타겟은 용융 기술로 생산되며, 일반적으로 자기 데이터 저장 분야에 적용됩니다. 최대 3N5 순도, 균일한 입자 크기, 낮은 산소 함량으로 최종 사용자는 PVD 공정 중에 일정한 침식 속도와 고순도 및 균일한 박막 코팅을 얻을 수 있습니다.

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• 세륨 가돌리늄(CeGd) 스퍼터링 타겟

  세륨 가돌리늄 합금 스퍼터링 타겟(CeGd)은 박막 증착의 핵심 소재입니다. 세륨과 가돌리늄을 결합한 이 합금은 코팅 응용 분야에 고유한 특성을 제공합니다. CeGd 타겟은 다양한 산업에서 중요한 역할을 하며 향상된 기능과 성능을 갖춘 고급 코팅의 생산을 용이하게 합니다.

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• 베릴륨 스퍼터링 타겟

  베릴륨은 실온에서 매우 부서지기 쉬운 강철 회색 금속이며, 화학적 성질은 알루미늄과 다소 비슷합니다.

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• 크롬(Cr) 스퍼터링 타겟

  크롬 스퍼터링 타겟은 금속 크롬(Cr)과 동일한 특성을 가지고 있습니다. 크롬은 기호 Cr과 원자 번호 24를 가진 화학 원소로, 강철 회색, 광택이 나는 단단하고 부서지기 쉬운 전이 금속입니다. 크롬은 또한 스테인리스 스틸의 주요 첨가제로, 부식 방지 특성을 추가합니다.

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• 루테늄(Ru) 스퍼터링 타겟

  루테늄 스퍼터링 타겟은 고순도 루테늄으로 구성된 회색 타겟입니다. 루테늄은 기호 Ru와 원자 번호 44를 가진 화학 원소입니다. 주기율표의 백금족에 속하는 희귀한 전이 금속입니다. 백금족의 다른 금속과 마찬가지로 루테늄은 대부분의 다른 화학 물질에 불활성입니다.

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• 스칸듐(Sc) 스퍼터링 타겟

  스칸듐은 기호 Sc, 원자 번호 21을 갖는 화학 원소입니다. 1541도의 녹는점과 2831도의 끓는점을 가진 부드럽고 은백색의 전이 금속입니다. 물에 쉽게 녹고, 뜨거운 물과 반응할 수 있으며, 공기 중에서 쉽게 어두워지고, 주요 원자가는 +3 원자가입니다.

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• 셀레늄(Se) 스퍼터링 타겟

  셀레늄은 주기율표의 XVI족에 속하는 비금속 화학 원소입니다. 화학적 활동과 물리적 특성은 유황과 텔루륨과 비슷합니다. 셀레늄 금속은 어둠 속보다 빛 속에서 전기를 더 잘 전달하며 광전지에 사용됩니다.

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• 실리콘(Si) 스퍼터링 타겟

  폴리실리콘 또는 폴리실리콘이라고도 불리는 폴리실리콘은 태양광 및 전자 산업에서 원료로 사용되는 고순도 폴리실리콘의 한 형태입니다. 폴리실리콘은 지멘스 공정이라고 하는 화학적 정제 공정을 통해 야금 등급 실리콘에서 생산됩니다.

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• 주석(Sn) 스퍼터링 타겟

  티타늄 스퍼터링 타겟은 티타늄 금속으로 만들어집니다. 티타늄은 금속으로서 높은 강도 대 중량 비율로 알려져 있습니다. 낮은 밀도를 가진 강한 금속으로, 매우 연성이 있고(특히 산소가 없는 환경에서), 광택이 나고, 금속성 흰색입니다.

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• 티타늄(Ti) 스퍼터링 타겟

  티타늄 스퍼터링 타겟은 티타늄 금속으로 만들어집니다. 티타늄은 금속으로서 높은 강도 대 중량 비율로 알려져 있습니다. 낮은 밀도를 가진 강한 금속으로, 매우 연성이 있고(특히 산소가 없는 환경에서), 광택이 나고, 금속성 흰색입니다.

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• 텅스텐(W) 스퍼터링 타겟

  텅스텐 스퍼터링 타겟은 고순도 텅스텐 금속으로 만들어지며, 이는 일반적으로 깨지기 쉽고 가공하기 어렵습니다. 텅스텐을 매우 순수한 재료로 만들면 경도(많은 강철보다 더 높음)를 유지할 수 있으며 가공하기 쉬운 충분한 연성을 갖습니다. 단조, 스트레칭 또는 압출을 통해 가공됩니다. 텅스텐 물체는 일반적으로 소결을 통해 형성됩니다.

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• 바나듐(V)스퍼터링 타겟

  바나듐 스퍼터링 타겟은 원료 물질과 속성을 공유합니다. 바나듐은 기호 V와 원자 번호 23을 가진 화학 원소입니다. 단단하고 은회색이며, 연성이 있고, 가공성이 있는 전이 금속입니다.

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