하스텔로이 C-4 사각 플레이트

Hastelloy C-4 사각 플레이트는 니켈 기반 초합금 사각 플레이트입니다. 정밀 압연과 열처리를 통해 만들어집니다. 두께는 5mm에서 50mm, 측면 길이는 최대 2000mm와 같은 표준 크기를 갖습니다. 또한 엄격한 공차 관리도 갖추고 있습니다.

하스텔로이 C-4 사각판은 주로 니켈을 함유하고 있습니다. 크롬 16%, 몰리브덴 16%로 구성되어 있습니다. 또한 소량의 티타늄과 철도 함유되어 있습니다. 탄소 함량이 0.015% 이하인 저탄소 설계를 갖췄습니다. 안정화되어 감작에 대한 저항력이 향상됩니다.

Hastelloy C-4 사각 플레이트는 다양한 분야에서 널리 사용됩니다. 화학 산업에서는 반응기 및 산 처리 장비에 사용됩니다. 환경 분야에서는 배연 탈황 시스템에 사용됩니다. 항공우주 산업에서는 고온 부품에 사용됩니다.

Hastelloy C-4 사각판은 내식성, 열안정성, 용접성이 우수합니다. 극도의 부식성 및 고온 환경에 이상적인 소재입니다. 이는 장비의 긴 수명과 안전한 작동을 보장합니다.

하스텔로이 C-4 사각 플레이트의 특징

우수한 내식성:Hastelloy C-4 사각 플레이트는 산화 및 환원 환경 모두에서 잘 작동합니다. 특히 염산, 황산, 염화물 응력 부식 균열(SCC)에 대한 내성이 뛰어납니다. 그것은 1000도 이상의 온도를 견딜 수 있습니다.

열 안정성:낮은 열팽창 계수와 높은{0}}온도 강도(최대 650도까지 연속 사용 가능)를 갖춘 Hastelloy C-4 사각 플레이트는 열 순환 환경에 적합합니다.

작업성 및 용접성:용액 강화 처리 후 플레이트의 연성은 양호합니다. 냉간 성형 및 용접이 가능합니다(예: TIG 용접 및 레이저 용접). 또한 용접 후 입계 부식에도 강합니다.

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하스텔로이 C-4 사각판의 응용

화학 산업:Hastelloy C-4 사각 플레이트는 반응기, 열 교환기 및 배관 시스템을 만드는 데 사용됩니다. 이는 산성 매체(인산 생산과 같은)를 다룹니다.

환경 및 에너지:Hastelloy C-4 사각 플레이트는 스크러버 타워와 같은 배가스 탈황(FGD) 시스템의 구성 요소에 사용됩니다. 이는 습한 황 함유 가스로 인한 부식에 강합니다.

항공우주:Hastelloy C-4 사각 플레이트는 고온 가스 경로 라이너에 사용됩니다. 경량 및 내열성 요구 사항을 충족합니다.

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