하스텔로이 B2 사각 플레이트

Hastelloy B2 사각 플레이트는 니켈-몰리브덴 합금(Ni-Mo)입니다. 환원 매체의 부식에 대한 탁월한 저항성으로 유명합니다. Hastelloy B2 사각판은 열간압연 또는 냉간압연을 통해 평평한 직사각형 모양으로 만들어집니다. 정확한 치수와 매끄러운 표면을 가지고 있습니다. 이를 통해 기계 가공 및 설치가 쉬워집니다.

Hastelloy B2 사각 판의 일반적인 구성은 약 65% 니켈(Ni)과 약 28% 몰리브덴(Mo)입니다. 또한 철(Fe)과 크롬(Cr)도 소량 함유되어 있습니다. 구리(Cu)나 텅스텐(W)이 거의 들어 있지 않습니다. 강한 환원성 산성 환경에 적합합니다.

Hastelloy B2 사각판은 화학(원자로, 파이프), 제약(산처리 장비), 환경(폐가스 세정기), 핵연료 처리 분야에서 널리 사용됩니다. 염산 및 황산과 같은 환원 매체로 인한 부식에 저항할 수 있습니다. 400도 이하의 고온-환경에서 사용할 수 있습니다. 그러나 산화 조건은 피해야 합니다. 가공 중에 용접 및 절단을 주의 깊게 제어하여 성능을 보장해야 합니다.

하스텔로이 B2 사각 플레이트의 특징

우수한 내식성:Hastelloy B2 사각 플레이트는 염산, 황산, 인산과 같은 산을 환원시키는 데 탁월한 성능을 발휘합니다. 고온-온도 조건에서도 안정성을 유지합니다.

국부적인 부식에 대한 저항성:Hastelloy B2 사각 판은 구멍, 응력 부식 균열(SCC) 및 입계 부식에 저항합니다.

고온-온도 서비스:Hastelloy B2 사각 플레이트는-400도 이하에서 장기간 사용할 수 있으며 단기적으로는 더 높은 온도를 견딜 수 있습니다.

작업성:Hastelloy B2 사각 판은 작업-경화되는 경향이 있습니다. 저속, 고중량-피드 절단 공정을 사용하는 것이 가장 좋습니다. 탄화물 침전을 방지하기 위해 중간 어닐링을 피하십시오.

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하스텔로이 B2 사각판의 응용

화학 장비:Hastelloy B2 사각 플레이트는 반응기, 열 교환기 및 배관 시스템을 만드는 데 사용됩니다. 염화물 이온 또는 혼합 산이 포함된 거친 매체를 처리합니다.

제약 산업:Hastelloy B2 사각 플레이트는 산성 약물 합성이나 용매 회수 장치의 핵심 부품을 만드는 데 사용됩니다.

환경 분야:Hastelloy B2 사각 플레이트는 폐가스 세정기 및 폐산 회수 장치에 사용됩니다. 황화물과 염화물로 인한 부식에 강합니다.

핵연료 처리:Hastelloy B2 사각 판은 염산 및 황산에 대한 부식에 강하기 때문에 핵폐기물 재처리 장비에 사용됩니다.

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매개변수	사양 범위	표준/참고
두께(mm)	1.0 – 50.0	맞춤형 크기 제공
폭(mm)	500 – 2000	공통: 1000/1500/2000
길이(mm)	1000 – 6000	맞춤형 길이 가능
표면 마감	열간압연(HR), 냉간압연(CR), 산세(AP)-	CR은 더 나은 정밀도를 제공합니다.
배송조건	어닐링(용액-처리)	ASTM B333 표준
가장자리 조건	전단, 밀 엣지	밀 엣지는 용접 시 버를 감소시킵니다.
용인	±0.1mm(CR박판)	두꺼운 플레이트: ±1%~3%
적용 가능한 표준	ASTM B333, ASME SB333	EN, JIS 등에 따라 사용 가능