하스텔로이 C2000 사각 플레이트

Hastelloy C2000 사각 플레이트는 니켈-기반 고온-합금 플레이트입니다. 냉간압연이나 열간압연을 통해 정사각형 모양으로 만듭니다. 성형성과 용접성이 우수합니다. 하스텔로이 C2000 사각판의 대표적인 조성은 니켈(Ni)을 베이스로 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 구리(Cu)를 첨가한 것이다. 또한 내식성을 향상시키기 위해 저-탄소 설계(C 0.01% 이하)를 적용했습니다. Hastelloy C2000 사각 판의 일반적인 두께는 1.5mm에서 50mm입니다. 측면 길이를 사용자 정의할 수 있습니다. 표면은 연마 또는 산 세척으로 처리됩니다. 정밀 산업 부품 제조에 사용됩니다.

Hastelloy C2000 사각 플레이트는 화학 장비(원자로, 파이프), 환경 프로젝트(연도 가스 탈황 시스템), 의약품(내산-용기) 및 해양 플랫폼(해수 담수화 장치)에 널리 사용됩니다. 산 및 알칼리 내식성이 우수하고, 고온-온도 안정성 및 용접성이 뛰어납니다. 특히 강산, 할로겐 및 고온의 가혹한 환경에 적합합니다. 이는 고급-산업 부식 방지-재료에 이상적인 선택입니다.

Hastelloy C2000 사각 플레이트의 특징

우수한 내식성:

Hastelloy C2000 사각 플레이트는 산화 매체(예: 질산 및 크롬산) 및 환원 매체(예: 염산 및 황산)에 대한 높은 내성을 가지고 있습니다. 할로겐이 있는 환경에서 공식 및 응력 부식 균열(SCC)에 저항하는 면에서 316L과 같은 스테인리스강보다 성능이 훨씬 뛰어납니다.

구리(Cu)를 첨가하면 황산 환경에서 Hastelloy C2000 사각 플레이트의 안정성이 향상됩니다. 몰리브덴(Mo)은 국부 부식에 대한 저항성을 향상시킵니다.

높은-온도 안정성:

Hastelloy C2000 사각 플레이트는 600도 이하에서 오랫동안 작동할 수 있습니다. 단기간에 최대 900도까지 견딜 수 있습니다. 내산화성은 일반 니켈- 기반 합금보다 우수합니다.

가공 및 용접 장점:

Hastelloy C2000 사각 판은 연성이 좋습니다. 스탬핑과 벤딩을 통해 형성할 수 있습니다. TIG 및 MIG와 같은 일반적인 용접 방법을 지원합니다. 용접 후 열처리가 필요하지 않습니다.

product-672-505

Hastelloy C2000 사각 판의 응용

화학 장비:Hastelloy C2000 사각 플레이트는 반응기, 열 교환기 및 배관 시스템을 만드는 데 사용됩니다. 특히 SO2, HCl과 같은 산성 가스가 있는 환경에서 사용됩니다.

환경 프로젝트:Hastelloy C2000 사각 플레이트는 FGD(배도가스 탈황) 시스템의 스크러버 부품 및 폐수 처리 장비에 사용됩니다.

제약 및 식품:하스텔로이 C2000 사각판은 강산성 세척제에 견딜 수 있는 용기, 컨베이어에 사용됩니다. 위생 기준을 충족합니다.

해양 플랫폼:Hastelloy C2000 사각 플레이트는 염화물 이온 부식을 방지하기 위해 해수 담수화 장치의 고압 펌핑 CAS에 사용됩니다.-

product-720-544

매개변수	사양 범위	비고
재료 표준	UNS N06200 / DIN 2.4675	ASTM B575, ASME SB575 준수
두께(mm)	1.5 – 50	공통: 3mm, 5mm, 6mm, 10mm, 20mm
폭(mm)	600 – 2000	맞춤형 커팅 가능
길이(mm)	1000 – 6000	표준: 2000mm, 3000mm, 4000mm
정사각형 크기(mm)	100 – 3000 (맞춤 설정 가능)	표준: 1000×1000mm, 1500×1500mm
표면 마감	절임, 2B 광택, No.1	요청 시 샌드블라스팅 또는 특수 연마
밀도(g/cm3)	~8.5	니켈- 기반 합금에 일반적임
인장강도(MPa)	690 이상	항복강도 310 MPa 이상
신장률(%)	40 이상	우수한 연성
작동 온도 ( 도 )	-200 ~ +600(장기)	최대 900도의 단기-저항성(산화)