구리(Cu) 스퍼터링 타겟

구리 스퍼터링 타겟은 금속 구리(Cu)와 동일한 특성을 가지고 있습니다. 구리는 기호 Cu(라틴어: cuprum에서 유래)와 원자 번호 29를 가진 화학 원소입니다. 매우 높은 열 및 전기 전도도를 가진 부드럽고 연성이며 인성이 있는 금속입니다. 갓 노출된 순수 구리는 분홍빛 주황색입니다. 구리는 열과 전기의 도체, 건축 자재 및 다양한 금속 합금의 구성 요소로 사용됩니다. 구리 스퍼터링 타겟은 용융 기술로 생산되며 반도체, 장식용 코팅 및 고급 포장 분야에 널리 적용됩니다.

우리는 순도 99.9%~99.9999%의 구리 스퍼터링 타겟을 생산할 수 있으며, 가장 낮은 산소 함량은 반도체 배선 등일 수 있습니다. 우리는 평면 구리 스퍼터링 타겟(최대 G8.5 세대)뿐만 아니라 주로 터치 스크린 산업에 사용되는 구리 회전 타겟도 생산합니다. 그레인을 깨기 어렵기 때문에 매우 큰 변형으로만 가공하고 트윈의 성장을 제어하여 미세하고 균일한 미세 구조를 달성할 수 있으며, 이는 스퍼터링 중 입자 형성의 낮은 침식 속도와 민감성을 보장합니다.

다음은 구리 스퍼터링 타겟의 두 가지 미세 사진입니다. 평균 입자 크기는 ＜50μm입니다.

구리는 여러 번의 전기 분해와 지역 제련을 통해 99.95%에서 99.99%, 99.999%, 99.9999%로 정제됩니다. 중국에서 가장 높은 순도는 약 99.9999%(6N)입니다. 고순도 구리 잉곳을 원료로 하여 원료를 단조, 압연, 열처리하면 구리 잉곳의 결정립이 작아지고 밀도가 증가하여 스퍼터링용 구리 타겟의 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 변형 처리 후의 고순도 구리 재료는 기계적으로 가공됩니다. 구리 타겟 가공에는 고정밀도와 높은 표면 품질이 필요하며 진공 코팅 기계에서 요구하는 타겟 크기로 가공할 수 있습니다.

CuNi 스퍼터링 타겟

AlCu 스퍼터링 타겟

Cu2ZnSnS4 스퍼터링 타겟

CuNiTi 스퍼터링 타겟

CuS 스퍼터링 타겟

CuSn 스퍼터링 타겟

CuZn 스퍼터링 타겟

CoCu 스퍼터링 타겟

Cu2O 스퍼터링 타겟

CoCrZr 스퍼터링 타겟

CoNiMn 스퍼터링 타겟

CuO 스퍼터링 타겟

AlSiCu 스퍼터링 타겟

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