설명
텅스텐 타겟은 주로 텅스텐으로 만들어진 편평한 디스크 모양의 물체입니다. 텅스텐은 융점(섭씨 약 3422도)이 매우 높은 조밀하고 단단한 금속입니다. 이러한 타겟은 다양한 산업 공정, 특히 박막 증착 및 X선 생성 분야에서 사용됩니다.
텅스텐 타겟의 응용
물리적 기상 증착(PVD):텅스텐 타겟은 스퍼터링 및 증발과 같은 PVD 공정에 일반적으로 사용됩니다. 스퍼터링에서는 타겟에 고에너지 이온이 충격을 가해 타겟에서 원자나 분자를 떨어뜨려 기판에 증착시켜 박막을 형성합니다. 텅스텐은 높은 융점과 경도로 인해 이 공정에 이상적인 재료입니다.
엑스레이 튜브:X선 튜브에서는 텅스텐 타겟이 X선을 생성하는 데 사용됩니다. 고속 전자가 목표물에 충돌하면 빠르게 감속하여 X선이 방출됩니다. 텅스텐의 원자 번호가 높으면 X선 생산 효율이 향상됩니다.
전자빔 용접:텅스텐 타겟은 집중된 전자 빔이 용접 접합부에서 재료를 녹이는 전자 빔 용접에도 사용할 수 있습니다.
이온 주입:이온이 고체로 가속되어 특성이 변하는 이온 주입에서는 이온의 높은 에너지를 견딜 수 있는 능력을 위해 텅스텐 타겟이 사용됩니다.
텅스텐 타겟의 특성
1. 높은 융점: 언급한 바와 같이 텅스텐은 모든 원소 중에서 가장 높은 융점을 가지고 있으며 이는 PVD 공정 및 X선 생성 중에 생성되는 고온을 견디는 데 중요합니다.
2. 고밀도: 텅스텐은 밀도가 높기 때문에 질량과 관성이 중요한 요소인 응용 분야에 유리할 수 있습니다.
3. 좋은 열전도율: 텅스텐은 열전도율이 좋아 사용 중에 열을 발산하는 데 도움이 됩니다.
4. 내마모성: 텅스텐의 경도는 내마모성에 기여하며 이는 대상의 수명에 중요합니다.
텅스텐 타겟 제조
- 분말야금: 텅스텐 분말을 압축한 후 소결하여 타겟을 형성합니다. 이 방법은 복잡한 형상을 만들거나 순도가 높은 대상을 만들 때 자주 사용됩니다.
- 주조: 텅스텐은 원하는 모양으로 주조할 수 있지만 이 방법은 불순물을 도입할 수 있고 복잡한 모양을 주조하는 능력으로 인해 제한됩니다.
- 가공: 텅스텐의 경도를 처리할 수 있는 특수 절단 도구를 사용하여 견고한 텅스텐 블랭크를 원하는 모양과 크기로 가공할 수 있습니다.
텅스텐 타겟 사양
|
등급 |
W1,W2 |
|
청정 |
95% 이상 |
|
지름 |
0.5mm-30mm |
|
두께 |
1-10mm |
|
녹는점 |
3410도 |
|
밀도 |
18.75g/cm3 |
|
표면 |
광택 처리, 마무리 선삭, 접지 |
|
배달 시간 |
25일 |
|
기준 |
ASTM, GB |
인기 탭: 텅스텐 타겟, 중국 텅스텐 타겟 공급 업체, 공장





