제품 설명
고순도 이온 이식 텅스텐 필라멘트는 이온 이식 장비에 사용되는 필라멘트입니다. 이온이 가속되어 대상 물질에 주입되는 이온 이식 공정의 혹독한 조건을 견디도록 설계되었습니다.
이온 이식 텅스텐 와이어는 주로 반도체 제조 공정에서 이온 이식 기계에 사용되는 핵심 구성 요소입니다. 이 유형의 텅스텐 와이어는 반도체 장비에서 중요한 역할을 하며, 그 품질과 성능은 IC 공정 라인의 효율성에 직접적인 영향을 미칩니다. 이온 이식 기계는 대규모 집적 회로의 제조 공정에서 핵심 장비이며, 이온 소스로서 텅스텐 와이어의 역할을 무시할 수 없습니다.
사양
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치수 |
맞춤형 |
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애플리케이션 |
반도체 |
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표면 |
우아한 |
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청정 |
99.95% |
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재료 |
W1 |
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밀도 |
19.3g/cm3 |
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실행 기준 |
GB/T 4181-2017 |
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녹는점 |
3400도 |
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불순물 함량 |
0.01% |
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