티타늄 알루미늄 스퍼터링 타겟

티타늄 알루미늄 스퍼터링 타겟

Yitech는 고급 열간 등방성 프레스 공정을 통해 티타늄 알루미늄 스퍼터링 타겟을 생산합니다. 이는 일반적으로 하드웨어 도구 코팅, 장식용 코팅, 반도체 부품 및 평면 디스플레이 코팅에 사용됩니다.
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제품 설명

 

Yitech는 고급 열간 등압 프레스 공정을 통해 티타늄 알루미늄 스퍼터링 타겟을 생산합니다. 이는 일반적으로 하드웨어 도구 코팅, 장식용 코팅, 반도체 부품 및 평면 디스플레이 코팅에 사용됩니다. 이러한 용도의 이유는 높은 연성(장수명), 높은 열전도도 및 균일한 미세 구조 때문입니다.

 

티타늄 알루미늄 스퍼터링 타겟 정보

 

순도: 99.5-99.9%;
원형 : 직경<= 1500 mm x 500 mm;
로터리: 길이<=2000 mm, Thickness: <=15 mm;
타겟 유형: 평면 스퍼터링 타겟, 회전 스퍼터링 타겟.

 

티타늄 알루미늄 스퍼터링 타겟 분석

 

티타늄 알루미늄 스퍼터링 타겟

속성

속성

속성

구성 (at%)

티33알루미늄67

티티50알루미늄50

티70알30

청정

99.80%

99.80%

99.80%

밀도 g/cm³

3.29

3.6

3.95

입자 크기(um)

100 이하

100 이하

100 이하

열전도도(W/mk)

98

70

40

열팽창계수(K)

1.9 x 10-5

1.75 x 10-5

1.35 x 10-5

 

티타늄 알루미늄 스퍼터링 타겟에 대한 추가 정보

 

응용 프로그램

• 장식용 코팅
• 하드웨어 도구 코팅
• 반도체
• 평면 패널 디스플레이

 

제조 공정

• 분말 준비
• 열간 등압 압착
• 분석 : 결정립 미세화, 어닐링, 미세조직학, 가공
• 세척 및 최종 포장 - 진공에서 사용하기 위해 세척됨

 

특징

• 경쟁력 있는 가격
• 높은 순도
• 입자 정제, 엔지니어링된 미세 구조

• 최소 순도 99.5%
• TiAl 타겟의 맞춤형 구성 가능(Al: 10at%-90at%)
• R&D 애플리케이션을 위해 더 작은 크기도 제공됩니다.
• 스퍼터링 타겟 본딩 서비스

 

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