순수한 ti 스퍼터링 대상

순수한 TI 스퍼터링 대상은 순도, 우수한 표면 광택제, 우수한 전기 및 열전도율, 좋은 충격 저항성, 우수한 마모 및 부식성, 높은 인장 강도, 좋은 연성을 갖습니다.

문의 보내기

순수한 ti 스퍼터링 대상

다른 목표와 비교할 때 금속 목표는 세라믹 목표보다 시장 수요가 높고 성능이 높고 서비스 수명이 더 길다. 스퍼터링 목표의 경우 금속의 화학적 순도가 높을수록 필름의 전도도와 내마모성이 더 좋습니다.

순수한 TI 스퍼터링 목표의 적용

1. 사분식 코팅 재료

2. 생물학적 임플란트 재료

3. Getter Material : 티타늄은 활성 가스에 대한 강한 흡착 용량을 가지고 있으며 초고 진공 펌프 시스템 및 스퍼터 이온 펌프에 사용할 수 있습니다.

4. 첨단 전자 정보 자료 : 통합 회로 및 평면 패널 디스플레이를위한 고순도 티타늄 소비가 증가했습니다.

순수한 TI 스퍼터링 목표의 사양

등급	1 학년, 2 학년
기술	소결, 단조, 어닐링, 롤링, 진공 용융, 가공
청정	99.9%-99.995%
지름	<350mm
두께	1-100 mm
바 크기	Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1mm)
튜브 크기	튜브 (회전 대상, OD : 20mm -160 mm, 두께 : 2-20 mm)
밀도	4.5g\/cm3
표면	세련되고 밝은 화학적 세정, 검은 색 산화물 등.
모양	디스크, 플레이트, 직사각형, 사각형, 기둥 대상,
기준	ASTM B385, GB, JIS