금속 티타늄 목표
금속 티타늄 표적은 주로 전자 빔 냉각 제련 방법에 의해 제조된다. 그것은 고순도, 높은 특이 적 강도, 산소가없는 환경에서의 강인성, 강한 용접 및 가공 성능, 우수한 연성, 뛰어난 열전도율, 내마모성 및 생체 적합성을 갖습니다. 그것은 우수한 저항, 높은 코팅 품질, 긴 서비스 수명 및 비자 성 특성과 같은 우수한 특성을 가지고 있습니다.
금속 티타늄 표적은 주로 반도체, 광전자 및 자기 재료와 같은 첨단 분야에서 재료를 제조하는 데 사용됩니다. 예를 들어, 반도체 산업에서, 그들은 포토 디오드, 포토 트랜스스터, 광도 및 이미 터와 같은 전자 성분의 제조에 사용됩니다.
또한, 금속 티타늄 표적은 또한 고온 합금, 전도성 재료, 화학 촉매, 항공 우주 구성 요소 및 의료 장비에 널리 사용됩니다.
금속 티타늄 표적의 사양
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등급 |
1 학년, 2 학년 |
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기술 |
소결, 단조, 어닐링, 롤링, 진공 용융, 가공 |
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청정 |
99.9%-99.995% |
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지름 |
사용자 정의 |
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두께 |
사용자 정의 |
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바 크기 |
Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1mm) |
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튜브 크기 |
튜브 (회전 대상, OD : 20mm -160 mm, 두께 : 2-20 mm) |
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밀도 |
4.5g\/cm3 |
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표면 |
세련되고 밝은 화학적 세정, 검은 색 산화물 등. |
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모양 |
디스크, 플레이트, 직사각형, 사각형, 기둥 대상, |
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기준 |
ASTM B385, GB, JIS |
금속 티타늄 표적의 그림

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